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レーザー関連

■ 再生増幅Ti:Sapphireレーザー

Spectra-Physics社 Solstice　基本波800 nm、パルス幅100 fs、出力1 mJ。SHG使用可。フェムト秒の過渡吸収測定の光源。

Spectra-Physics社 Solstice Ace　基本波800 nm、パルス幅100 fs、出力5 mJ。SHG使用可。フェムト秒の過渡吸収測定の光源。

■ 自動波長可変OPA

 Spectra-Physics社 TOPAS　Ti:Sapphireレーザーとの組み合わせで、475-2600nmの発振可。可視域2台、近赤外域1台。

■ Nd:YAGレーザー

EKSPLA社 OPO-NT342B　Nd:YAGレーザー 基本波1064 nm、パルス幅~5 ns、THGの355 nm（150 mJ）およびOPOにより 波長可変410-2600nm（30 mJ）マイクロ秒過渡吸収装置の励起光源。

■ Nd:YAGレーザー

ELFORLIGHT社 SPOT-10-200-532　Nd:YAGレーザー 532 nm、パルス幅<1.8 ns、出力20 uJ）TPV/TPC/CEの励起光源。

顕微鏡関連

■ 光学顕微鏡　

キーエンス社 VHX-8000　6000倍までの高解像画像が簡便の測定できる。

■ 原子間力顕微鏡（AFM）　

島津製作所 SPM-9700　試料表面の凹凸をオングストロームレベルで測定。電流計測、表面電位計測、温度制度が可能。

■ 走査電子顕微鏡（SEM）　

キーエンス社 VE-9800　膜表面や断面の観察

分光測定装置

■ 時間相関単一光子計数装置　

堀場製作所 FluoroCube　シングルフォトン計数法による発光の時間分解測定。可視検出系とInGaAs光電子増倍管近赤外検出系を併設。

ユニソク LSP-200T　シングルフォトン計数法による発光の時間分解測定。可視光検出系（400-1000 nm）とアバランシェフォトダイオード近赤外検出系（900-1600 nm）を併設。装置応答関数は可視光検出系で100 ps以下、近赤外検出系で200 ps以下。

■ 高感度フェムト秒ポンプ-プローブ分光計　

Ultrafast Systems社 HELIOS。CCDとInGaAs検出器の併用により広い観測波長範囲450-1600nmが特長。観測時間範囲0-3.3ns、検出可能吸光度変化～0.0002。

Ultrafast Systems社 EOS。電気的遅延回路設計により観測時間範囲を拡大。

■ 高感度マイクロ秒過渡吸収測定装置　

安定化ハロゲンランプをプローブ光源、Nd:YAG・OPOレーザーを励起光源とした過渡分光システム。 SiおよびInGaAsフォトダイオード検出器の併用により広い観測波長範囲250-1600nmが特長。時間ゲート型アンプシステム(Costronics社）の使用により～0.000001の吸光度変化を検出可能。

■ TPV/TPC/CE測定装置　

Nd:YAGレーザーをパルス励起光源、白色LEDランプをバイアス光源とした過渡光電流計測システム。

■ 紫外・可視・近赤外蛍光分光光度計　

堀場製作所 NanoLog　蛍光・リン光スペクトルの測定。可視検出系と近赤外検出系を併設し、紫外・可視・近赤外領域のスペクトル測定が可能。

■ 絶対PL/EL量子収率測定装置

分光計器 BEL-300　PLおよびELの絶対量子収率を測定。

■ 紫外・可視・近赤外吸収分光計（2台）

日立製作所社 U-4100　観測波長186-3200nm。

日立製作所社 UH-4150　観測波長175-3300nm。

■ ソーラーシミュレータ・近赤外高感度分光感度測定装置

分光計器 ECT-250D　太陽光と同じ特性を持つ光源あるいは分光光源での太陽電池の特性評価。分光感度測定では近赤外領域を高感度に測定できるのでサブバンドギャップの情報が得られる。

■ 電場吸収測定装置

電場印加状態での吸収スペクトルの変化をロックインアンプ方式で検出。

■ 大気下光電子収量測定装置

理研計器 AC-3　大気下において薄膜のイオン化エネルギーを評価。

薄膜作製と評価

■ LB膜作製装置

水面上に展開した単分子膜を固体基板上に転写することで、ナノメートルスケールの多層膜を作製（Langmuir-Blodgett法）

■ 交互吸着膜作製装置　

2種の高分子間にはたらくクーロン相互作用や電荷移動相互作用を利用して、ナノメートルスケールの多層膜を簡便に作製。

■ 表面接触角測定装置　

材料の表面エネルギー評価に用いる。

■ 示差走査熱量測定装置 　

パーキンエルマー社 DSC8500-S　材料の熱相転移温度の評価に用いる。

■ クリーンルーム／ベンチ

薄膜作製のための無塵環境

■ 真空蒸着装置

金属の蒸着膜を作製。2台。

■ 電気化学測定装置

作製した機能性超薄膜の電気的特性を評価

■ 温調プローバー

高分子薄膜の電気伝導度や、太陽電池の導電特性の温度依存性を評価。光照射下での光電流も測定可。

■ UVオゾンクリーナー

シリコンウェハ、ITO、石英など基板表面をオゾンにより洗浄

■ 超純水作製装置

蒸留、イオン交換、有機物除去によって超純水を作製する装置

■ 電気炉

半導体微粒子を基板上に焼結

■ グローブボックス

KIYON社 KK-011AS　循環精製装置内蔵、酸素濃度<1ppm、水分<1ppm。蒸着装置と接続。高分子太陽電池などを作製。

美和製作所社 DBO-1-IBT　循環精製装置内蔵、酸素濃度<1ppm、水分<1ppm。ペロブスカイト薄膜などを作製。

■ スピンコーター

10～100 nmオーダーの薄膜を簡便に作製。